某研究所在 PZT 鐵電薄膜的電學性能研究中運用伯東 Hakuto 離子蝕刻機 10IBE.

Hakuto 離子蝕刻機 10IBE 技術參數:

 Hakuto 離子刻蝕機 10IBE  離子源是配伯東公司代理美國考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的考夫曼離子源 KDC 160

伯東美國 KRI 考夫曼離子源 KDC160 技術參數：

Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度.

研究表面采用伯東 Hakuto 離子刻蝕機 10IBE 刻蝕工藝后, PZT薄膜的鐵電性能幾乎能恢復到蝕刻前, 如矯頑場值、漏電流、疲勞性能等, 鐵電性能會得到更好的改善.有利于提高貼點存儲密度, 降低生產成本.

若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯東版權所有, 翻拷必究!