| AMAT 0041-32713 |
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價格： 元(人民幣) | 產地：本地 |
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| 上架時間：2025-06-13 13:37:51 | 瀏覽量：21 | |
深圳長欣自動化設備有限公司
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| 所屬行業：工控系統及裝備 | 主要客戶：鋼鐵廠,發電廠,煉油廠,化工廠 | |
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AMAT 0041-32713產品簡介 AMAT 0041-32713是應用材料公司（Applied Materials）開發的渦輪分子泵控制器卡，專為半導體制造設備的真空系統設計，負責精密控制渦輪分子泵的轉速、壓力及流量參數，確保工藝腔室達到高真空環境。該產品兼容多品牌泵體，支持高可靠性運行，是半導體刻蝕、薄膜沉積等工藝的核心控制模塊。 主要特點和優勢 高精度真空控制：采用數字信號處理技術，實時監測渦輪分子泵轉速與腔室壓力，精度達±0.1 Pa，滿足半導體工藝對真空環境的嚴苛要求。 多品牌兼容性：適配Pfeiffer、Edwards等主流品牌渦輪分子泵，支持模塊化配置，適配不同設備型號的泵體參數需求。 抗干擾設計：通過電磁屏蔽與信號隔離技術，抵御工業環境中的電磁干擾，確保控制信號穩定傳輸。 智能故障診斷：內置自檢功能，可識別泵體過載、軸承異常等故障，實時生成報警信息并建議維護策略。 長壽命與低維護：采用工業級元器件，工作壽命超過5萬小時，支持帶電熱插拔更換，減少停機時間。 技術規格 型號：0041-32713 功能定位：渦輪分子泵控制卡 控制參數： 轉速范圍：1000-120,000 RPM 壓力監測范圍：10??Pa至10?Pa 流量控制精度：±5% 通信接口： 工業總線：EtherCAT、Profibus-DP 人機界面：RS-485串口（Modbus協議） 環境參數： 工作溫度：0～60℃ 防護等級：IP54（防塵防濺水） 電源要求：24V DC冗余供電，支持過壓/欠壓保護 應用領域 半導體制造：集成于刻蝕機、CVD（化學氣相沉積）設備，維持工藝腔室高真空環境，保障晶圓加工精度。 真空鍍膜：控制鍍膜機真空系統，優化薄膜均勻性與附著力。 科研設備：用于同步輻射光源、質譜儀等高真空實驗裝置，確保極端環境下的穩定運行。 工業清洗：支持真空清洗設備的壓力調控，提升清洗效率與潔凈度。 相關產品 AMAT ASM 192 T2D+控制器：與0041-32713協同工作，實現真空系統與工藝參數的聯動控制。 Pfeiffer HiPace 400渦輪泵：適配0041-32713的高流量泵體，適用于大腔室真空環境。 Edwards AXI 400i真空計：提供壓力數據反饋，與0041-32713形成閉環控制鏈。 |
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