KRI 射頻離子源典型應用 LED-DBR 輔助鍍膜
上海伯東美國 KRI 射頻離子源成功應用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場. 隨著對鍍膜品質要求的不斷提升, 使用霍爾離子源輔助鍍膜已經無法滿足某些鍍膜應用市場, 國內某 LED 制造商經過我司推薦采用射頻離子源 RFICP 325 安裝在 DBR 生產設備 1650 mm 蒸鍍機中. 成功實現精密光學鏡頭鍍膜并通過脫膜測試!
上海伯東射頻離子源客戶案例: 國內某 LED 制造商
1. 離子源應用: LED-DBR 鍍膜生產
2. 系統功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國 KRI 射頻離子源 RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業界較高等級, 離子源 RFICP 325 特殊的柵極設計 E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 substrate holder, 無論是生產良率或是均勻性都可達到生產效能.
4. 離子源功能: 通過射頻離子源 RFICP 325 實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的 LED-DBR 無論是亮度測試, 脫膜測試, 頂針測試, 光學特性等等… 都優于目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.
上海伯東射頻離子源安裝案例: KRI RFICP 325 射頻離子源安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.


KRI 射頻離子源測試案例: LED-DBR 脫膜測試.
1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試

2. 測試結果

--------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國考夫曼離子源, 樣品無崩邊
 

上海伯東美國射頻離子源 KRI  RFICP 325 優點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
模塊化設計, 保養快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學膜后折射率
全自動控制設計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易
上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.