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              上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000
              上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 價格:  元(人民幣) 產地:美國
              最少起訂量:1 發貨地:上海
              上架時間:2023-03-15 15:33:53 瀏覽量:90
              伯東企業(上海)有限公司  
              經營模式:代理商 公司類型:外商獨資
              所屬行業:真空泵 主要客戶:
                在線咨詢 跟我QQ洽談

              聯系方式

              聯系人: (先生) 手機:15201951076
              電話: 傳真:
              郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn 地址:上海市浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206

              詳細介紹

              因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

              霍爾離子源 eH 3000

              KRI 霍爾離子源 eH 3000
              上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供更高離子束流的離子源.
              尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
              放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
              操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
              KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
              ? 水冷 - 加速冷卻
              ? 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
              ? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
              ? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
              ? 等離子轉換和穩定的功率控制
              KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數

              型號

              eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

              供電

              DC magnetic confinement

                - 電壓

              50-250V VDC

                - 離子源直徑

              ~ 7 cm

                - 陽極結構

              模塊化

              電源控制

              eHx-25020A

              配置

              -

               - 陰極中和器

              Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

               - 離子束發散角度

              > 45° (hwhm)

                - 陽極

              標準或 Grooved

               - 水冷

              前板水冷

               - 底座

              移動或快接法蘭

               - 高度

              4.0'

               - 直徑

              5.7'

               - 加工材料

              金屬
              電介質
              半導體

               - 工藝氣體

              Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

               - 安裝距離

              16-45”

               - 自動控制

              控制4種氣體

              * 可選: 可調角度的支架;
              KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
              濺鍍和蒸發鍍膜 PC
              輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
              表面改性, 激活 SM
              直接沉積 DD
              1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

              若您需要進一步的了解詳細信息或討論,   請參考以下聯絡方式:

              上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
              T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
              F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
              M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
              www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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