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              上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000
              上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000 價格:  元(人民幣) 產地:美國
              最少起訂量:1 發貨地:上海
              上架時間:2023-03-15 15:31:31 瀏覽量:94
              伯東企業(上海)有限公司  
              經營模式:代理商 公司類型:外商獨資
              所屬行業:真空泵 主要客戶:
                在線咨詢 跟我QQ洽談

              聯系方式

              聯系人: (先生) 手機:15201951076
              電話: 傳真:
              郵箱:marketing@hakuto-vacuum.cn 地址:上海市浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206

              詳細介紹

              因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

              霍爾離子源 eH 2000

              KRI 霍爾離子源 eH 2000
              上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eH 1000 所有的性能, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合大中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
              尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
              放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A 或 15A
              操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體
              KRI 霍爾離子源 eH 2000 特性
              ? 水冷 - 與 eh 1000 對比, 提供更高的離子輸出電流
              ? 可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
              ? 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
              ? 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
              ? 等離子轉換和穩定的功率控制
              KRI 霍爾離子源 eH 2000 技術參數

              型號

              eH 2000 / eH 2000L / eH 2000x02/ eH 2000 LEHO

              供電

              DC magnetic confinement

                - 電壓

              40-300V VDC

                - 離子源直徑

              ~ 5 cm

                - 陽極結構

              模塊化

              電源控制

              eHx-30010A

              配置

              -

                - 陰極中和器

              Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

                - 離子束發散角度

              > 45° (hwhm)

                - 陽極

              標準或 Grooved

                - 水冷

              前板水冷

                - 底座

              移動或快接法蘭

                - 高度

              4.0'

                - 直徑

              5.7'

                - 加工材料

              金屬
              電介質
              半導體

                - 工藝氣體

              Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

                - 安裝距離

              16-45”

                - 自動控制

              控制4種氣體

              * 可選: 可調角度的支架; Sidewinder
              KRI 霍爾離子源 eH2000 應用領域
              ?  離子輔助鍍膜 IAD
              ?  預清洗 Load lock preclean
              ?  預清洗 In-situ preclean
              ?  Direct Deposition
              ?  Surface Modification
              ?  Low-energy etching
              ?  III-V Semiconductors
              ?  Polymer Substrates


              1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

              若您需要進一步的了解詳細信息或討論,   請參考以下聯絡方式:

              上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
              T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
              F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
              M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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