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              東莞光馳真空鍍膜機出售 OTFC-1300MM型號齊全 雙槍帶射頻源
              東莞光馳真空鍍膜機出售 OTFC-1300MM型號齊全 雙槍帶射頻源 價格:999999  元(人民幣) 產地: 國外
              最少起訂量:1 發貨地:廣東
              上架時間:2022-11-15 16:44:26 瀏覽量:146
              東莞市宏誠光學制品有限公司  
              經營模式: 公司類型:私營有限責任公司
              所屬行業:光學儀器 主要客戶:
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              聯系方式

              聯系人:李小姐 (小姐) 手機:18025286660
              電話: 傳真:
              郵箱:234719256@qq.com 地址:東莞茶山黃嶺路62號

              詳細介紹

              日本原裝光馳OTFC-1300MM帶涉頻源含安裝鍍膜機 光學機
              1. 用途:此真空鍍膜機是鍍制防污膜(AS膜)及防反射膜+防污膜(AF+AS膜)型光學鍍膜機,應用于鍍膜機等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染,消除空間碰撞,提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性,運動模式的膜均勻性好,鍍層的臺階覆蓋性能好,承載能力大,可充分利用有效空間的真空鍍膜室,是一個運動的常用模式。排氣系統一般由機械泵,擴散泵,管道和閥門組成。為了提高泵的流量,可以添加增壓器之間的機械泵和擴散泵。因此,不僅在較短的時間內低壓力以保證快速的工作循環的排氣系統,還需要確保氣體的蒸發源和蒸鍍工件表面產生快速的去除。蒸發系統包括電氣設備和加熱蒸發源蒸發源。電氣設備包括測量真空薄膜的厚度和控制
              3.特征:磁密封驅動的基板旋轉式可得到穩定和均勻的膜厚分布
              4.配備:配備RF離子源以提高膜的耐摩擦性;用于防污膜(AS 膜)批量生產;防污膜(AS 膜)批量生產。
              5.性能:達到壓強7.0E-5Pa以下
              6.配置參數:
              真空室 Ф2350mm×H 1400mm
              基板架 Ф2200 mm
              基板架轉速 20rpm
              晶振式膜厚計 6點式?晶傳感器
              蒸發源電?槍1臺,熱阻蒸達到壓強 7.0E-5Pa 以下
              排強時間 15分以下(壓強?2.0×10-3 Pa)
              7.工作條件:
              設備尺寸約6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)
              電源 3相,200v,50/60Hz,約80KVA
              水流量 220升/分以上
              空氣壓力 0.5-0.7mpa
              重量約12000kg
              訂購說明
              機器設備,檢測設備等大型機器設備線下交易
              1、可聯系銷售人員到工廠看機,簽訂機器購買合同,付合同定金,進行試機
              2、若不方便到工廠看機器,可聯系銷售人員,簽訂合同,可讓銷售人員拍攝機器工作視頻進行確認,全款發貨
              因設備面對全國客戶,設備價格不含運費,不含稅,含稅可另外說明,加10點增值稅
              工廠,3天之內發貨,可協助裝車叫物流運輸

              光馳鍍膜機的工作原理

              真空鍍膜設備的應用十分廣泛,牽涉到各行各業,也受到了小伙伴們的普遍鐘愛,那它工作原理是什么?下列是一個詳細的講解,我希望能夠幫助到你:

              鍍膜設備

              真空泵涂層設備主要指必須在高真空中進行的鍍層,包含多弧正離子真空泵涂層設備、真空泵正離子揮發、電子光學涂層機、射頻濺射、MBE分子束外延性,PLD激光器磁控濺射堆積有許多種。真空泵鍍層工作原理是膜體高溫下揮發并落到工件表面開展結晶體。因為氣體會讓揮發膜分子結構造成摩擦阻力,造成撞擊,使結晶不光滑沒光,所以必須在高真空下使結晶細致光亮。假如真空值不太高,結晶體會無光澤,結合性也不是很好。初期真空泵鍍層取決于揮發體自然的透射,融合效果不佳,光滑度差。如今,根據高頻射頻濺射靶,在靜電場的影響下,將膜論的揮發分子結構加快對于目標原材料的躍遷,磁控濺射很多總體目標分子,將中性化總體目標分子(或分子結構)附著在底材上產生塑料薄膜,克服了以往當然揮發沒法加工制作膜種類,如鈦鍍和鋯鍍等。

              對電子器件在不勻磁場里的運動規律展開了更深入研究,論述了射頻濺射的更一般基本原理及其電磁場的橫著不均勻性和對稱是磁管束的主要原因。射頻濺射可被稱之為涂層技術中最明顯的造就之一。特點是磁控濺射率大,底材環境溫度升低,膜-基本結合性好,設備平穩。高頻機器設備必須使用冷卻循環水制冷,由于其頻率高,電流大。當電導體流動性時,電流量具備肌膚搜集效用。正電荷將聚在電導率的面積中,這可能導致電導率熱。因而,應用中孔管做為電導體的中間冷卻水。

              涼水作用操縱真空泵涂層機溫度,以保證高質量鍍層。要是沒有工業冷水機,真空泵涂層機無法達到高精密、高效率的溫控,由于天然礦泉水和水池排熱不可避免遭受當然環境溫度產生的影響,這類控制方法很不平穩。

              東莞市宏誠光學有限公司主要從事真空泵涂層設備的探索、銷售。有著20年的領域開發經驗,有著100多種多樣設備類型與國際綜合型高科技公司。商品已通過世界各國很多國際認證,備受世界各國客戶的一致好評,熱烈歡迎大部分客戶跟進。

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