EDI高純水體系簡介:
電去離子Electrodeionization，簡稱EDL，又稱接連電

免除鹽技能，它科學地將電滲析技能和離子交流技能融為一體，經過阻、陽

離子
的挑選透過效果以及離子交流樹脂對水中離子的交流效果，在電場的作

用下實現水中離子的定向搬遷，然后達到水的深度凈化除鹽，并通
過水電解

發生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行接連再生，因而EDI制水進程不需

酸，堿化學藥昂再生即可接連制取高品質純水.
EDI高純水體系作業原理:
自來

水中常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽、碳酸鹽、硅等溶解鹽。這些鹽是由負

電離子(負離子)和正電離子(正離子)組成。反滲
透能夠除掉其中超過 99%的

離子。自來水也含有微量 金屬，溶解的氣體(如CO2)和其它必須在工業處理

中去除的弱離子化的化合物(如
硅和硼砂)。
RO 出水(FDI講水)一般為 4-

30us(申導)，依據不同重要，超純水或去離子水一般電 陰為 2-15MO CM，

lonpure 的 FDI 經過用氨離
子或氫氧根離子將它們交流并將它們送至濃水 

流中除掉它們。交流反應在模塊的純化室進行，在那里陰離子交流樹脂用它

們的氧氧根離子
(OH截圖(Alt+A)鹽中的陽離子(如CL-)。相應地，陽離子交流

樹脂用它們交流樹脂用它們的氫離子(H+)來交流溶解鹽中的陽離了
(如Na+)。

在坐落模塊兩端的陽極(+)和陰極(-)之間加一向流電場。電勢就使交流到樹

脂上的離子沿著樹脂粒的外表搬遷并經過膜
進入濃水室。 陽極招引負離子(

如OH-，CL-)。這些離子穿過陰離子膜進入相臨的濃水流卻被陰離子膜阻隔，

然后留在濃水流中。陰極
招引超純水流中的陽離子(如H+，Na+)，這些離子穿

過陽離子挑選 膜，講入相臨的濃水流卻被阻離子膜陽隔，然后留在濃水流中

。當
水流過這兩種平行的室時，離子在超純水室被除并在相臨的濃水流中聚

積，然后由濃水 流將其從模塊中帶走，在超純水及濃水中離子交流
樹脂的使

用是lonpure FDI技能和專利的關 鍵，一個重要的現象在超純水室的離子交

換脂中發生，在電勢差高的部分區域，電化學反應分
解的水發生的大量的H+

和OH-，在混床離子交流樹脂中部分H+和OH-的發生使樹脂和膜不需要添加化

學藥品就能夠持續再生，使FDI外
干丅作狀況，不出毛病的其本要求是對 

FDI進水進行恰當的預外理，進水中的雜質對去離子模塊有很大影響，并可能

導致縮短模塊的
壽命。


EDI進水規范:
以下是確保 EDI 正常運轉的條件。

為了使體系運轉效果更佳，體系規劃時應恰當進步這些條件。
★給水:RO超純

水，一般水的電導率為4-30us/cm。
★PH:5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不

能太高)
★溫度:5-35℃
★進水壓力:為4kq/cm2(60psi)，最小為

1.5kg/cm2(25psi)。留意:組件壓力丟失取決于流量和水溫。EDI組件規范配

置:
★出水壓力:濃水和電極水的出口壓力必須低于產品的出口壓力。
★硬度(

以CaCO3計):為1.0ppm，主張采用0.1ppm。
★有機物:為0.05ppm。
★

氧化劑:為0.05ppm(CL2)，0.02ppm(03)。
★變價金屬:為 0.01 ppm 

Fe
★二氧化硅:50-150ppb。
★二氧化碳CO2的總量:二氧化碳含量和PH值將明

顯影響產品水電阻率。在大于10ppm 時般應在EDI設備前設備脫氣設備。

孟孟

:
EDI高純水體系優點:
1、不需要酸堿再生 電除鹽的操作安全的，廢水的處理

變得簡單了。
2、可接連出產 電除鹽的出產是接連的，免除了運用混床進程

中復雜的再生操作，減少了許多備用設備。
3、不需要處理廢酸堿 沒有廢酸

堿的中和排放處理體系。電除鹽的濃水能夠直接排放或返回到 RO 的進口

(EDI 中濃水量比超純水少得
多)。
4、設備條件簡單 電除鹽在設備時，占地

面積小，大部分規范廠房都能滿足，對干較低的廠房，能夠經過對 電除鹽模

塊的水平裝備處理。
5、體系規劃簡單 電除鹽的模塊規劃很簡單把它的流量

做到450噸/小時甚至更高。
6、運轉成本低 申除鹽體系與各種混床相比，在

價格上有競爭性。
7、實用的規劃 關于電除鹽體系，不管是修理仍是增減設

備的容量都是很簡單的,必需要更換膜堆時，在現 場只要花極少的停機時間

就能夠
完成。
8、水質安穩 申除鹽的出水質量安穩有把握。不會有普通混床

那樣的水質變化。
9、設備修理簡便 電除鹽設備允許經過對其他膜堆的流量

重新分配而達到對某一個膜堆修理的要求，不改動體系的功能。

孟孟:
EDI設

備應用領域:
1、電廠化學水處理;
2、電子、半導體、精密機械職業超純水
3、

制藥工業工藝用水;
4、食品、飲料、飲用水的制備;
5、海水、苦咸水的淡化 

;
6、精細化工、精尖學科用水;
7、半導體資料、器件、印刷電路板和集成電

路用純水;
8、半導體資料、晶元資料出產、加工、清洗;
9、轎車、家電外表

拋光處理;
10、其他職業所需的高純水制備。