蔡司Zeiss ORION NanoFab

用于亞 10 納米級應用的離子束顯微鏡

• 快速亞 10 nm 結構加工
  使用氖和氦離子束加工有超高精度要求的精細亞 10 納米結構。無論是使用濺射、氣體輔助切割、氣體輔助沉積或是光刻技術刻蝕材料，在亞 10nm 加工應用中 ORION NanoFab 均表現不凡。
  
  
• 集三種離子束顯微技術于一體
  使用鎵聚焦離子束刻蝕大塊材料。利用精準的氖離子束快速完成微加工，利用氦離子束加工精細的亞 10 納米級結構。利用氦和氖離子還可以防止傳統 FIB 鎵粒子注入引起的基體材料性質變化。
  
  
• 高分辨率成像
  借助 0.5 納米成像分辨率，它可在同一臺加工儀器中實現樣品的高分辨率成像。與使用場發射掃描電子顯微鏡（FE-SEM）成像相比，其可獲得 5 至 10 倍的景深并和更豐富的圖像細節。