| 供應供應進口 rf磁控濺射及刻蝕處理設備 用于光學薄膜/半導體晶圓批量生產 |
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價格： 元(人民幣) | 產地：本地 |
| 最少起訂量：1 | 發貨地：本地至全國 | |
| 上架時間：2019-05-06 23:36:33 | 瀏覽量：275 | |
上海儀恩埃半導體設備有限公司
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| 經營模式：其他 | 公司類型：否 | |
| 所屬行業：分立半導體 | 主要客戶：全國 | |
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品牌p/e 型號440 加工定制否 類型無 外形尺寸無mm 重量無kg 產品用途光學薄膜量產、半導體晶圓生產、大尺寸晶圓處理 規格無 展開 供應供應進口 rf磁控濺射及刻蝕處理設備 用于光學薄膜/半導體晶圓批量生產 點我去除廣告 射頻等離子設備：濺射沉積和刻蝕處理,設計用于批量生產高產出 load lock:抽氣能力極強，打開腔體裝樣不會影響沉積腔體真空度 沉積薄膜范圍：可以沉積幾乎所有薄膜及進行刻蝕處理 多功能模式：dc磁控濺射、rf磁控濺射、rf電極濺射、偏壓濺射、 反應濺射、濺射刻蝕、等離子刻蝕、反應離子刻蝕 生產能力強：al沉積速率高達2000?/分鐘，生產超過150個3英寸晶圓/小時 高產出：旋轉襯底用于多程沉積，保證高均勻性和每批次可重復性。 其他特點： 快速裝載，快速抽真空，閉環氦低溫泵。 特殊的機械設計專門用于***小化污點和小孔等缺陷的產生。 通過易操作的裝載托盤設計降低晶圓破損率。 可重復性高品質薄膜通過干凈的高真空環境來保證。 設備用于生產高品質al, al合金, pt，硅化物，tiw，niau，氮化硅，二氧化硅，硅鉻化合物 應用：光學薄膜、mems、半導體晶圓處理、金屬膜、非金屬膜等。 |
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