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光刻膠美國-光刻膠-賽米萊德(查看)

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光刻膠介紹
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光刻膠是一種對光線、溫度、濕度十分敏感的材料，光刻膠美國，可以在光照后發生化學性質的改變，這是整個工藝的基礎。
光刻膠有不同的類型，pmma（pmgi）以及dnq（酚醛樹脂）等材料都可以做光刻膠。
目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括futurrex、陶氏化學、杜邦、富士膠片、信越化學、住友化學、lg化學等等，中國公司在光刻膠領域也缺少核心技術。

芯片光刻的流程詳解（二）
所謂光刻，光刻膠半導體，根據維基百科的定義，這是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質層，例如玻璃、sos中的藍寶石。
光刻的基本原理是利用光致抗蝕劑（或稱光刻膠）感光后因光化學反應而形成耐蝕性的特點，將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。

pcb穩定
pcb被譽為"電子產品之母"，廣泛應用于各個電子終端。2016年，全球pcb市場規模達542.1億美元。國外研究機構預測，光刻膠顯影，pcb市場年復合增長率可達3%，到2020年，光刻膠，pcb全球市場規模將達到610億美元；中國在2020年pcb產值有望達到311億美元，在2015-2020年期間，年復合增長率略高于國際市場，為3.5%。得益于pcb行業發展剛需，我國pcb光刻膠需求空間巨大。

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