鍍膜是當光線進入不同傳遞物質時(如由空氣進入玻璃)，大約有5％會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30％至40％�，F代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5％，多層增透膜則可讓反射降低至0.25％，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95％。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

但是，目前市面上在對手機殼鍍膜處理前對手機殼進行預處理的方式并不完善，導致手機殼在鍍膜后容易出現鍍膜不均勻的情況，鍍膜較薄處容易在手機殼的使用途中產生劃痕，而且碰撞時，鍍膜較薄處更容易變形。

因此，湖南某知名手機鍍膜制造商希望通過采用離子源輔助鍍膜機來改善手機殼鍍膜的質量，提高生產率。經過我司推薦采用大尺寸KRI 考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產設備 2050 mm 蒸鍍機中, 實現 LED-DBR 離子輔助鍍膜，大大提高了鍍膜質量和提高生產率。

KRI 考夫曼離子源客戶案例: 國內某知名手機鍍膜制造商
1. 離子源應用: 手機殼顏色鍍膜.
2. 系統功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國KRI 考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業界最高等級, 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設計所產生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產良率或是均勻性都可達到最高生產效能.
4. 離子源功能: 通過 KRI EH 5500 霍爾源實現離子輔助鍍膜 IBAD 及預清潔 Pre-clean 功能后, 所生產出的手機殼顏色鍍膜及 3D 玻璃鍍膜無論是環境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應力測試等等… 都優于目前一般業界蒸鍍機所搭配的離子源.

上海伯東美國 KRI 霍爾離子源 EH 5500 優點:
1.離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
2.氣體分子離子轉化率高, 離子束工作穩定
3.鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質
4.模塊化設計, 保養快速方便
5.增加薄膜附著性, 增加光學膜后折射率
6.全自動控制設計, 操作簡易
7.低耗材成本, 安裝簡易

                   EH 5500 離子源本體
       

              EH 5500 離子源控制器

上海伯東是美國KRI 考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國總代理. 美國KRI 考夫曼公司離子源已廣泛應用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質量之薄膜. KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI 考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI 考夫曼離子源.