鉬靶材

鉬靶 密度10.2克/立方厘米。
熔點2610℃。
沸點5560℃。

鉬靶材純度：99.9% ，99.99%

規格：圓形靶，板靶，旋轉靶

鉬靶材廣泛用于導電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學玻璃、離子鍍膜等行業，適用所有平面鍍膜及旋轉鍍膜系統。

純度：純鉬≥99.95%，高溫鉬≥99%（添加稀土元素）

密度：≥10.2g/cm3

熔點：2610℃

供貨狀態：成品態

規格：根據客戶要求定制

生產工藝流程：

鉬坯(原材料)-檢驗-熱軋--堿洗-冷軋-校平-機械加工-檢驗-包裝

包裝方式:木箱包裝

工期：定制15天內交貨（庫存隨時發貨）。

發貨方式：快遞或物流（可協商）

運 費：供應商承擔。

后期服務：保質期內如出現質量問題，供方承擔所有責任（正常使用范圍內）。

鉬材料適用環境：真空環境或惰性氣體保護環境，純鉬較高耐高溫1200度，鉬合金較高耐高溫1700度。

鉬材料的適用行業及用途：鉬材料主要用在真空高溫行業，電子行業，藍寶石熱場及航空航天制造行業等，鉬材料經過變形量達到60%以上的軋制加工后，鉬的密度基本上接近于理論密度，因此其具有高強度，內部組織均勻和優良的抗高溫蠕變性能，被廣泛應用于生產藍寶石晶體生長爐內的反射屏，蓋板真空爐內的反射屏，發熱帶，連接件，等離子鍍膜用的濺射靶材，耐高溫舟皿等制品。

公司：洛陽高新四豐電子材料有限公司

聯系人：王經理