、原理與用途：

本裝置系采用非蒸散型鋯鋁16吸氣劑為凈化劑。在一定的溫度下，吸氣劑可與氬氣中的微量雜質O₂、N₂、H₂、H₂O、CO、CH₄等等形成穩定的化合物或固溶體，從而達到對氬氣精制之目的。

本裝置凈化器采用特殊結構，具有接觸面積大、阻力小、凈化效果高、熱功耗損少等優點。

本裝置可與區熔硅單晶爐配套使用，也可用于激光器、濺射、半導體生產、氣相色墻儀、特殊燈泡、稀有金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。

二、主要技術指標：

1、處理氣量：≤1Nm³/hi。

2、凈化效果：

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3、凈化劑壽命：每爐可處理99.99%的氬氣2500～3750立方米。

4、功率：1.2KW

電壓：220V

頻率：5HZ

5、外形尺寸：1450×450×600mm（高×寬×深）

6、重量：～120kg

三、工藝技術條件及流程

1、激活規范：800℃ 0.5～1小時（-760mmHg表壓真空或

160升/小時氬氣流下）

2、操作溫度：700～740℃

3、操作壓力：≤4Kg^f/cm²

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