CDP化學機械拋光機是我司自主研的一款用于晶圓表面拋光的設備。其具備性能優越，操作簡單，設備占用空間小等優點。實現高精度的化學機械拋光，適用于多種材料，包括硅晶圓、III-V族化合物、氧化物、紅外材料襯底、藍寶石、氮化鎵和碳化硅襯底等。

主要功能
◆ 操作方式：自動上下料、拋光等工藝。
◆ 設備可按設定工藝配方進行晶圓拋光。
◆ 設備控制配備齊全的安全聯鎖功能
? 設備明顯位置處設有EMO緊急停止按鈕；
? 設備異常斷電時主電源應能自動關斷，確保供電恢復時候設備不會自動啟動；
? 設備運動等裝置明顯位置處貼有危險警示標記。
◆ 設備具有齊全的報警功能，包括壓縮空氣欠壓報警、真空故障、工藝加工過程異常報警等功能。
◆ 系統軟件：可實現設備運行的實時過程監視，具備可視化、數據記錄、防止誤操作等功能，軟件可對機臺硬件配置參數做保存及加載；可快速地進行工藝配方編輯、修改、保存等，可自動或手動運行工藝配方；