寧波市氣體檢測儀校驗計量 理化設備檢測服務簡介

　　膜厚儀，又叫膜厚計、膜厚測試儀，分為磁感應鍍層測厚儀，電渦流鍍層測厚儀，熒光X射線儀鍍層測厚儀。 采用磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。

　　磁感應測量原理

　　采用磁感應原理時，利用從測頭經過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。利用磁感應原理的測厚儀，原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當軟芯上繞著線圈的測頭放在被測樣本上時，儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產品采用指針式表頭，測量感應電動勢的大小，儀器將該信號放大后來指示覆層厚度。近年來的電路設計引入穩頻、鎖相、溫度補償等地新技術，利用磁阻來調制測量信號。還采用專利設計的集成電路，引入微機，使測量精度和重現性有了大幅度的提高（幾乎達一個數量級）�，F代的磁感應測厚儀，分辨率達到0.1um，允許誤差達1，量程達10mm。

　　磁性原理測厚儀可應用來測量鋼鐵表面的油漆層，瓷、搪瓷防護層，塑料、橡膠覆層，包括鎳鉻在內的各種有色金屬電鍍層，以及化工石油待業的各種防腐涂層。

　　電渦流測量原理

　　高頻交流信號在測頭線圈中產生電磁場，測頭靠近導體時，就在其中形成渦流。測頭離導電基體愈近，則渦流愈大，反射阻抗也愈大。這個反饋作用量表征了測頭與導電基體之間距離的大小，也就是導電基體上非導電覆層厚度的大小。由于這類測頭專門測量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度，所以通常稱之為非磁性測頭。非磁性測頭采用高頻材料做線圈鐵芯，例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應原理比較，主要區別是測頭不同，信號的頻率不同，信號的大小、標度關系不同。

　　與磁感應測厚儀一樣，渦流測厚儀也達到了分辨率0.1um，允許誤差1，量程10mm的高水平。

　　采用電渦流原理的測厚儀，原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽極氧化膜。覆層材料有一定的導電性，通過校準同樣也可測量，但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導電體，但這類任務還是采用磁性原理測量較為合適

　　X射線衍射裝置（XRD）

　　簡單地說螢光X射線裝置(XRF)和X射線衍射裝置(XRD)有何不同,螢光X射線裝置(XRF)能得到某物質中的元素信息（物質構成,組成和鍍層厚度）,X射線衍射裝置(XRD)能得到某物質中的結晶信息。

　　具體地說,比如用不同的裝置測定(氯化鈉=NaCl)時,從螢光X射線裝置得到的信息為此物質由鈉(Na)和氯(Cl)構成,而從X射線衍射裝置得到的信息為此物質由氯化鈉(NaCl)的結晶構成。單純地看也許會認為能知道結晶狀態的X射線衍射裝置(XRD為好,但當測定含多種化合物的物質時只用衍射裝置(XRD)就很難判定,必須先用螢光X射線裝置(XRF)得到元素信息后才能進行定性。

　　膜厚儀也叫X射線測厚儀，它的原理是物質經X射線或粒子射線照射后，由于吸收多余的能量而變成不穩定的狀態。從不穩定狀態要回到穩定狀態，此物質必需將多余的能量釋放出來，而此時是以熒光或光的形態被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測量儀或成分分析儀的原理就是測量這被釋放出來的熒光的能量及強度，來進行定性和定量分析。

　　關于儀器校準驗證的說明

　　1. 執行儀器校準驗證的目的在于配合實驗室質量管理，儀器各項性能參數是否滿足或基本滿足儀器出廠時的要求，同時滿足ISO15189:2007和GB22576對實驗室檢驗質量的要求，保證檢驗結果的可溯源性，不同于儀器的保養或者維修。

　　2. 儀器校準驗證周期一般為12個月。

　　3. 儀器校準驗證必須由儀器公司工程師和應用技術人員執行，否則將不予認可。在校準驗證的全過程中，使用單位至少一名工作人員在場見證。

　　4. 儀器校準驗證必須依照正確、完整的流程進行，違反流程操作將不予認可。

　　5. 儀器校準報告必須加蓋公司方可生效。

　　6. 儀器校準驗證結束后，儀器公司將出具有公司效力的儀器校準驗證報告。

　　儀器校準：在規定的條件下，為確定測量儀器或測量系統所指示的量值，或實物量具所代表的量值，與對應的由標準所復現的量值之間關系的一組操作。

　　這個方法的步首先是對儀器進行檢查，而這個檢查需要對儀器進行實驗性的操作，并且要記錄操作過后的實驗數據，別忘了實驗次數盡量多一點，以確保不會出問題，就是數據的比對，我們可以根據標準值與實驗值得差距推算出儀器的度，而這也就達到了我們進行儀器校準的目的。