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              4英寸熱氧化工藝單晶硅片,氧化硅片襯底晶圓,氧化層厚度定制
              4英寸熱氧化工藝單晶硅片,氧化硅片襯底晶圓,氧化層厚度定制 價格:200.00  元(人民幣) 產地:江蘇無錫
              最少起訂量:1 發貨地:江蘇無錫
              上架時間:2025-01-28 08:19:20 瀏覽量:2
              江陰皓睿光電新材料有限公司  
              經營模式:生產加工 公司類型:私營有限責任公司
              所屬行業:光電子器件 主要客戶:科研院所
                在線咨詢 跟我QQ洽談

              聯系方式

              聯系人:吳明博 (先生) 手機:13961650381
              電話: 傳真:
              郵箱:derry@helioswafer.com 地址:江蘇省無錫市江陰市果園路12號

              詳細介紹

              產品參數
              品牌皓睿光電
              尺寸4英寸100mm
              氧化單面、雙面氧化
              氧化層厚20-1000nm
              拋光單面、雙面拋光
              晶向100
              導電類型P型
              可售賣地全國
              材質單晶硅



              單晶硅片規格書

              材質:CZ法單晶硅/FZ區熔單晶硅
              直徑:50.8mm(2英寸),100mm(4英寸)
              晶向:
              導電類型:P型
              拋光:單面拋光,雙面拋光
              氧化:單面氧化,雙面氧化
              拋光面粗糙度:氧化層:20nm-1000nm
              TTV≤10 um
              包裝:25片/盒卡塞裝



              硅材料是目前主要的元素半導體材料,用于半導體集成電路、二極管、外延片襯底、太陽能電池等領域,是電子工業的基礎材料。熱氧化是硅平面技術中一項重要的工藝,硅與含有氧化物質的氣體,如水汽和氧氣在高溫下進行化學反應,在硅片表面產生一層致密的二氧化硅(SiO2)絕緣薄膜,具有穩定的化學性質,在集成電路制造中有廣泛的應用。





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