技術參數：
1、處理氣量： 1~3000 Nm3/h(可根據用戶需要訂做非標設備)
2、原料氣要求： 水電解氫氣（如果是其他氫氣來源、訂購時需說明，工藝不一樣）
3、工作壓力：0.2-6MPa （可根據用戶需要訂）
4、(氫氣純化裝置)凈化效能：
H2≥5N/6N
水氣（H2O）≦-80℃
氧含量（O2） ≦1ppm
粉塵：氫氣干燥后，要求加絲網目≦0.03μ的過濾器。

三、應用領域：
高純氫氣廣泛應用于石油化工、電子工業、電子半導體、冶金工業、機械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產業部門和科學研究中、生產部門亦可作為熱處理保護氣體以及精細有機合成、航空航天等方面有著廣泛的應用。例如本機已在精密合金熱處理、航天航空、半導體硅材料、硅外延、化合物半導體等的生產中的應用，效果都很好。