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新型G超音頻鉆具焊接設備Y高頻焊接機D用我們的產品使您的焊接質量逐步提高 2011-06-25

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CVD爐（SiC）氣相沉積爐-西尼特（北京）電爐有限公司 2011-06-22

CVD PECVD 氣相沉積爐-西尼特（北京）電爐有限公司 CNT生產的PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的專用設備。淀積溫度能夠較高 (100～600oC可調 ) 2011-06-22

CVD爐（碳化硅膜） 氣相沉積爐-西尼特（北京）電爐有限公司 2011-06-16

CVD PECVD 氣相沉積爐 CNT生產的PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的專用設備。淀積溫度能夠較高 (100～600oC可調 ) 2011-06-16

CVD PECVD 氣相沉積爐 CNT生產的PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的專用設備。淀積溫度能夠較高 (100～600oC可調 ) 2011-06-10

cvd PECVD 氣相沉積爐 CNT生產的PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的專用設備。淀積溫度能夠較高 (100～600oC可調 ) 2011-06-03