<wbr id="pbjqz"><pre id="pbjqz"><noscript id="pbjqz"></noscript></pre></wbr>

            <nav id="pbjqz"></nav>
              <wbr id="pbjqz"><legend id="pbjqz"><video id="pbjqz"></video></legend></wbr>

              PLC企業資訊
                Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C 用于半導體晶圓刻蝕
                發布者:bdqysh  發布時間:2020-11-20 15:44:52

                某半導體公司為了去除晶圓反應表面產生的反應產物, 進而提高反應效率, 同時提高晶圓的均勻度, 采用 Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C 用于半導體晶圓刻蝕.

                 

                Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C 產品圖如上圖, 其主要構件包括 Pfeiffer 分子泵, KRI 考夫曼離子源, 觸摸屏控制面板, 真空腔體, 樣品臺.

                 

                Hakuto 離子蝕刻機 20IBE-C 技術參數如下:

                離子蝕刻機

                Ф4 inch X 6片

                基板尺寸

                < Ф3 inch X 8片
                < Ф4 inch X 6片
                < Ф8 inch X 1片

                樣品臺

                樣品臺可選直接冷卻 / 間接冷卻, 0-90度旋轉

                離子源

                20cm 考夫曼離子源

                均勻性

                ±5% for 8”Ф

                硅片刻蝕率

                20 nm/min

                溫度

                <100

                 

                Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C 的核心構件離子源采用的是伯東公司代理美國 考夫曼博士創立的 KRI考夫曼公司的射頻離子源 RFICP220

                 

                伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:

                離子源型號

                RFICP 220

                Discharge

                RFICP 射頻

                離子束流

                >800 mA

                離子動能

                100-1200 V

                柵極直徑

                20 cm Φ

                離子束

                聚焦, 平行, 散射

                流量

                10-40 sccm

                通氣

                Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

                典型壓力

                < 0.5m Torr

                長度

                30 cm

                直徑

                41 cm

                中和器

                LFN 2000

                * 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

                 

                Hakuto 離子刻蝕機 20IBE-C 的樣品臺可以 0-90 度旋轉, 實現晶圓反應面均勻地接受離子的轟擊, 進而實現提高晶圓的加工質量.

                 

                運用結果:

                1. 有效去除晶圓反應表面產生的反應產物, 進而提高反應效率

                2. 晶圓的均勻度得到良好提高

                3. 晶圓的加工質量得到明顯提高

                 

                若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯絡方式 :

                上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
                T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
                F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
                M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
                ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
                www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

                伯東版權所有, 翻拷必究!

                版權聲明PLC信息網轉載作品均注明出處,本網未注明出處和轉載的,是出于傳遞更多信息之目的,并不意味 著贊同其觀點或證實其內容的真實性。如轉載作品侵犯作者署名權,或有其他諸如版權、肖像權、知識產權等方面的傷害,并非本網故意為之,在接到相關權利人通知后將立即加以更正。聯系電話:0571-87774297。
              0571-87774297  
              免费人成激情视频在线看