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              PLC企業資訊
                伯東 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產
                發布者:bdqysh  發布時間:2020-11-18 16:37:56

                在 DC/DC 混合電路生產各工藝環節中會有不希望出現的物理接觸面狀態變化、相變等, 對質量帶來不利影響, 對其生產中表面狀態的控制已成為必不可少的關鍵控制環節.

                 

                某大型工廠在生產過程中采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產, 其主要目的是:

                1. 去除處理物體表面的外來物層, 如沾污層、氧化層等

                2. 改善物體表面狀態, 提高物體表面活性, 提高物體表面能等

                伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術參數:

                離子源型號

                RFICP220

                Discharge

                RFICP 射頻

                離子束流

                >800 mA

                離子動能

                100-1200 V

                柵極直徑

                20 cm Φ

                離子束

                聚焦, 平行, 散射

                流量

                10-40 sccm

                通氣

                Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

                典型壓力

                < 0.5m Torr

                長度

                30 cm

                直徑

                41 cm

                中和器

                LFN 2000

                 

                客戶存在的問題:

                客戶的背銀芯片很容易發生銀的硫化及氧化,將直接影響芯片的貼裝質量.被硫化或氧化背銀的芯片采用導電膠粘接、氫氣燒結、再流焊貼裝均將有空洞率增大導致接觸電阻、熱阻增大和粘接強度下降等問題.

                 

                解決方案:

                客戶采用 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 , 氬氣作為清洗氣體, 清洗時間200~300 s, 氣體流量40 sccm, 經過 KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 產生的離子束清洗芯片背面

                 

                運行結果:

                1. KRI 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 有效去除背銀芯片硫化銀及氧化銀, 保證了芯片貼裝質量

                2. 可有效提高 DC/DC 混合電路組裝質量及可靠性

                 

                 

                伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

                 

                 

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