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              PLC企業資訊
                KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源用于制備類金剛石薄膜
                發布者:bdqysh  發布時間:2020-10-30 15:19:43

                國內某制造商在鈦合金表面制備一層類金剛石薄膜 DLC, 以期改善鈦合金表面摩擦學性能, 為了獲得均勻且致密的類金剛石薄膜, 采用伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 制備類金剛石薄膜.

                伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數:

                射頻離子源型號

                RFICP 380

                Discharge 陽極

                射頻 RFICP

                離子束流

                >1500 mA

                離子動能

                100-1200 V

                柵極直徑

                30 cm Φ

                離子束

                聚焦

                流量

                15-50 sccm

                通氣

                Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

                典型壓力

                < 0.5m Torr

                長度

                39 cm

                直徑

                59 cm

                中和器

                LFN 2000

                 

                推薦理由:

                使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準確、靈活地對樣品選定的區域進行沉積和刻蝕.

                 

                運行結果:

                1. 沉積的類金剛石薄膜厚度約為 1.0 μm, 薄膜均勻且致密, 表面粗糙度Ra為13.23nm

                2. 類金剛石薄膜與基體結合力的臨界載荷達到31.0N

                3. DLC薄膜具有良好的減摩性, 摩擦系數為0.15, 耐磨性能得到提高

                 

                伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

                 

                 

                若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式:

                上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
                T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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