用途 

· 金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物） 

· 電子回旋共振(ECR)刻蝕 

· 薄膜沉積CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD 

· 濺射 

· 離子注入源，射束線泵送和站 

功能與優勢 

· 緊湊型設計，包括完全集成的控制器 

· 創新性自傳感軸承系統 

· 數字化5軸控制 

· 與現有渦輪泵相比振動級別降低了50% 

· 可以配置為運行腐蝕性制程