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EDI模塊維修項目EDI設備維修

發布者：longbiyuang 發布時間：2022-05-19 15:35:12

EDI高純水體系簡介:
電去離子Electrodeionization，簡稱EDL，又稱接連電解除鹽技能，它科學地將電滲析技能和離子交流技能融為一體，經過阻、陽離子
的挑選透過作用以及離子交流樹脂對水中離子的交流作用，在電場的作用下完結水中離子的定向搬遷，然后達到水的深度凈化除鹽，并通
過水電解發生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行接連再生，因此EDI制水進程不需酸，堿化學藥昂再生即可接連制取高品質純水.
EDI高純水體系工作原理:
自來水中常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽、碳酸鹽、硅等溶解鹽。這些鹽是由負電離子(負離子)和正電離子(正離子)組成。反滲
透能夠除掉其中超過 99%的離子。自來水也含有微量金屬，溶解的氣體(如CO2)和其它必須在工業處理中去除的弱離子化的化合物(如
硅和硼砂)。
RO 出水(FDI講水)一般為 4-30us(申導)，依據不同重要，超純水或去離子水一般電陰為 2-15MO CM，lonpure 的 FDI 經過用氨離
子或氫氧根離子將它們交流并將它們送至濃水流中除掉它們。交流反應在模塊的純化室進行，在那里陰離子交流樹脂用它們的氧氧根離子
(OH截圖(Alt+A)鹽中的陽離子(如CL-)。相應地，陽離子交流樹脂用它們交流樹脂用它們的氫離子(H+)來交流溶解鹽中的陽離了
(如Na+)。在坐落模塊兩端的陽極(+)和陰極(-)之間加一向流電場。電勢就使交流到樹脂上的離子沿著樹脂粒的外表搬遷并經過膜
進入濃水室。陽極招引負離子(如OH-，CL-)。這些離子穿過陰離子膜進入相臨的濃水流卻被陰離子膜阻隔，然后留在濃水流中。陰極
招引超純水流中的陽離子(如H+，Na+)，這些離子穿過陽離子挑選膜，講入相臨的濃水流卻被阻離子膜陽隔，然后留在濃水流中。當
水流過這兩種平行的室時，離子在超純水室被除并在相臨的濃水流中聚積，然后由濃水流將其從模塊中帶走，在超純水及濃水中離子交流
樹脂的運用是lonpure FDI技能和專利的關鍵，一個重要的現象在超純水室的離子交流脂中發生，在電勢差高的部分區域，電化學反應分
解的水發生的大量的H+和OH-，在混床離子交流樹脂中部分H+和OH-的發生使樹脂和膜不需要添加化學藥品就能夠繼續再生，使FDI外
干丅作狀態，不出毛病的其本要求是對 FDI進水進行適當的預外理，進水中的雜質對去離子模塊有很大影響，并可能導致縮短模塊的
壽命。

EDI進水規范:
以下是保證 EDI 正常運轉的條件。為了使體系運轉作用更佳，體系規劃時應適當提高這些條件。
★給水:RO超純水，一般水的電導率為4-30us/cm。
★PH:5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
★溫度:5-35℃
★進水壓力:為4kq/cm2(60psi)，最小為1.5kg/cm2(25psi)。留意:組件壓力丟失取決于流量和水溫。EDI組件規范裝備:
★出水壓力:濃水和電極水的出口壓力必須低于產品的出口壓力。
★硬度(以CaCO3計):為1.0ppm，主張采用0.1ppm。
★有機物:為0.05ppm。
★氧化劑:為0.05ppm(CL2)，0.02ppm(03)。
★變價金屬:為 0.01 ppm Fe
★二氧化硅:50-150ppb。
★二氧化碳CO2的總量:二氧化碳含量和PH值將明顯影響產品水電阻率。在大于10ppm 時般應在EDI設備前裝置脫氣裝置。

孟孟:
EDI高純水體系長處:
1、不需要酸堿再生電除鹽的操作安全的，廢水的處理變得簡略了。
2、可接連出產電除鹽的出產是接連的，免除了運用混床進程中雜亂的再生操作，減少了很多備用設備。
3、不需要處理廢酸堿沒有廢酸堿的中和排放處理體系。電除鹽的濃水能夠直接排放或返回到 RO 的進口(EDI 中濃水量比超純水少得
多)。
4、裝置條件簡略電除鹽在裝置時，占地面積小，大部分規范廠房都能滿足，對干較低的廠房，能夠經過對電除鹽模塊的水平裝備解決。
5、體系規劃簡略電除鹽的模塊規劃很簡單把它的流量做到450噸/小時甚至更高。
6、運轉成本低申除鹽體系與各種混床相比，在價格上有競爭性。
7、實用的規劃關于電除鹽體系，不管是修理仍是增減設備的容量都是很簡單的,必需要替換膜堆時，在現場只要花極少的停機時刻就能夠
完結。
8、水質穩定申除鹽的出水質量穩定有把握。不會有普通混床那樣的水質變化。
9、裝置修理簡潔電除鹽裝置允許經過對其他膜堆的流量重新分配而達到對某一個膜堆修理的要求，不改變體系的功能。

孟孟:
EDI設備應用領域:
1、電廠化學水處理;
2、電子、半導體、精細機械職業超純水
3、制藥工業工藝用水;
4、食物、飲料、飲用水的制備;
5、海水、苦咸水的淡化 ;
6、精細化工、精尖學科用水;
7、半導體資料、器件、印刷電路板和集成電路用純水;
8、半導體資料、晶元資料出產、加工、清洗;
9、汽車、家電外表拋光處理;
10、其他職業所需的高純水制備。